- Q:
蝕刻方法以及蝕刻液的定量分析方法
- 本發明涉及金屬蝕刻方法，更詳細說，涉及在半導體器件基板或 液晶元件基板等的基板制造工序等中，為了對金屬（層）形成微細電 極或金屬配線而使用感光性樹脂等的微細蝕刻工序中適用的蝕刻方 法。此外，本發明涉及上述蝕刻液的定量分析方法以及從上述蝕刻液 中回收磷酸的方法。 背景技術
- Q:
硝酸的定量分析和磷酸的定量分析
- 用水稀釋上述的混酸液6g,作成250g。調制成每lg有25mg 硝酸的硝酸鉀水溶液作為基準液，測定302nm附近的吸光度。用水作 為對照液。由基準液和吸光度的關系作成校準線，算出混酸液中的硝 酸濃度。硝酸的濃度為14.9重量％。硝酸當量為（14.9 (重量％) /100) /0.0631=2.365(meq.)。這里，0.0631是相當于1摩爾/升的氫氧化鈉lml 的硝酸量（g)。并且，這時的CV值（變動系數）為0.3%,分析值的 離散小。
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